原子層沉淀（ALD）用臭氧發(fā)生器有哪些品牌呢

以下是一些原子層沉積（ALD）中可能會用到的臭氧發(fā)生器品牌：

北京同林（TOGNLIN）：北京同林科技有限公司是一家是提供高純高濃度臭氧發(fā)生器系統(tǒng)服務商，目前產(chǎn)品包括半導體用高濃度臭氧發(fā)生器、臭氧氣體分析儀、溶解臭氧分析儀、臭氧水機、半導體用管道和接頭等。 已經(jīng)應用于眾多半導體企業(yè)、科研單位。為原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、光刻膠帶、晶片清潔、污染物去除、表面調(diào)節(jié)和氧化物生長等半導體工藝設(shè)備提供系統(tǒng)設(shè)備。適用于半導體的型號包括ATL-H30，3S-T10 ，NANO-15等。

奧爾斯曼（olsm）：天津奧爾斯曼新能源科技有限公司專注于設(shè)計、研發(fā)和制造各類先進的高純高濃度臭氧發(fā)生器系統(tǒng)，為原子層沉積等半導體工藝設(shè)備提供最佳的臭氧解決方案。公司目前已量產(chǎn) 3 個系列的高純高濃度臭氧發(fā)生器設(shè)備，包括 O3HIS 系列、HCV4014 系列和 CH1004 系列。

國林科技（GUOLIN）：青島國林環(huán)?？萍脊煞萦邢薰境闪⒂?1994 年，專業(yè)從事臭氧產(chǎn)生機理、臭氧應用技術(shù)、臭氧材料研究和臭氧設(shè)備制造，是亞洲較大的專業(yè)化臭氧裝備生產(chǎn)企業(yè)。公司擁有多項專有技術(shù)，產(chǎn)品可應用于多個領(lǐng)域，在原子層沉積方面也有一定的技術(shù)實力和市場份額。

蘇伊士新創(chuàng)建（SUEZ）：法國蘇伊士環(huán)境有限公司旗下品牌，始于 1897 年法國，由 OZONIA 更名而來，是全球知名的臭氧和紫外線消毒技術(shù)提供商和設(shè)備制造商，其臭氧發(fā)生器產(chǎn)品在水處理、工業(yè)應用等領(lǐng)域有廣泛的應用，也可能涉及原子層沉積等高端領(lǐng)域。

威德高（Wedeco）：隸屬于賽萊默集團，1976 年創(chuàng)始于德國，是世界水技術(shù)知名企業(yè)，全球較大規(guī)模的紫外線消毒系統(tǒng)和臭氧氧化系統(tǒng)的制造商。威德高于 1988 年推出臭氧技術(shù)，應用于飲用水、廢水、工藝用水、產(chǎn)品拋光、漂白、臭氧分解合成和除臭等場景，在原子層沉積行業(yè)也可能有一定的市場。

三菱（Mitsubishi）：三菱電機株式會社始于 1921 年日本，作為一家技術(shù)導向型企業(yè)，在壓縮機、自動化、變頻控制、動力設(shè)備等高科技領(lǐng)域造詣極深，其研發(fā)與制造的臭氧發(fā)生器被廣泛應用于凈水處理、污水系統(tǒng)及工業(yè)廢水的處理設(shè)施等各種場所，也可能應用于原子層沉積工藝中。